第二章光学系统设计概要新.ppt
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1、光学系统设计概要,广学 明德 海纳 厚为,光学仪器及其发展 光学设计及其发展 应掌握的光学设计基础,2.1 光学仪器的发展,2.1.1光学仪器发展的基础理论 古典理论几何光学或应用光学,波动光学时期,量子光学时期,现代光学时期,2.1.2光学仪器的类别,光学计量仪器 物理光学仪器 显微镜 测绘仪器 光学测试仪器 天文光学仪器 军用光学、光电仪器 医用光学仪器 照相机、摄像机 投影机、电影机械,2.1.3光学仪器的发展,二战以前,光学仪器初步形成系列。光学仪器制造已有近300年历史。从19世纪后期起,德国在光学设计与制造方面领先世界。 二战至1960年,主要表现在:改进结构,扩大使用范围和增加产
2、量,提高质量等方面。 1960年以来,数字读数,激光,全息,光纤,自动化,光电子和计算机等新技术的相继应用,创新了许多新的成像技术、新的光学材料、新的加工方法和新的光学器件。光学仪器取得了前所未有的成就。,2.2 光学设计的发展概况 2.2.1 光学设计的概念 光学设计所要完成的工作应该包括光学系统设计和光学结构设计。我们主要讨论光学系统设计。 光学系统设计就是根据仪器所提出的使用要求,来决定满足各种使用要求的数据,即设计出光学系统的性能参数、外形尺寸和各光组的结构等。,2.2光学设计及其发展,我们要为一个光学仪器设计一个光学系统,大体上可分为两个阶段。第一阶段是根据仪器总体的技术要求(性能指
3、标、外形体积、重量及相关技术条件),从仪器的总体(光学、机械、电路及计算技术)出发,拟定出光学系统的原理图,并初步计算系统的外形尺寸,以及系统中各部分要求的光学特性等。一般称这一阶段的设计为“初步设计”或者“外形尺寸计算”。,第二阶段是根据初步设计的结果,确定每个镜头的具体结构参数(半径、厚度、间隔、玻璃材料),以保证满足系统光学特性和成像质量的要求。这一阶段的设计称为“像差设计”,一般简称“光学设计”。这两个阶段既有区别又有联系。 在不同类型的仪器中所占的地位和工作量不同。如大部分军用光学仪器中,初步设计比较繁重,而像差设计相对来说比较容易;一般显微镜和照相机中,初步设计比较简单,而像差设计
4、比较复杂。,光学设计的发展经历了人工设计和光学自动设计的两个阶段,实现了由手工计算像差、人工修改结构参数进行设计,到使用电子计算机和光学自动设计程序进行设计的巨大飞跃。国内外已出现了不少功能相当强大的光学设计CAD软件。如今,计算机辅助设计已在工程光学领域中普遍使用,从而使设计者能快速、高效地设计出优质、经济的光学系统。然而,不管设计手段如何改变,光学设计过程的一般规律任然是必须遵循的。,2.2.2 光学设计的发展状况,2.2 光学系统设计的具体过程和步骤 2.2.1 光学系统设计的具体过程 1、制定合理的技术参数 从光学系统对使用要求满足程度出发、制定光学系统合理的技术参数,这是设计成功与否
5、的前提条件。 2、光学系统总体设计和布局 光学系统总体设计的重点是确定光学原理方案和外形尺寸计算。为了设计出光学系统的原理图,确定基本光学特性,使其满足给定的技术要求,首先要确定放大率(或焦距)、线视场(或角视场)、数值孔径(或相对孔径)、共轭距、光阑位置和外形尺寸。一般都按理想光学系统的理论和计算公式进行外形尺寸计算。,在上述计算时还要结合机械结构和电器系统,以防止这些理论在机械结构上无法实现。每项性能的确定一定要合理,过高的要求会使设计结构复杂,造成浪费;过低的要求会使设计不符合要求。因此,这一步骤必须慎重。 3、光组的设计 一般分为选型、确定初始结构参数、像差校正三个阶段 1)选型 光组
6、的划分,一般以物象共轭面之间的所有光学零件为一个光组,也可将其进一步划小。选型是光学系统设计的出发点,选型是否合理、适宜是设计成败的关键。,2)初始结构的计算和选择 初始结构的确定常用以下两种方法: (1)解析法(代数法):即根据初级像差理论求解初始结构。这种方法是根据外形尺寸计算得到的基本特性,利用初级像差理论来求解满足成像质量要求的初始结构,即确定系统光学零件的曲率半径、透镜的厚度和间隔、玻璃的折射率和色散等等。 (2)缩放法:即根据对光组的要求,找出性能参数比较接近的已有结构,将其各外形尺寸乘以缩放比K,得到所要求的结构,并估计其像差的大小或者变化趋势。,3)像差校正、平衡与像差评价 初
7、始结构选好后,要在计算机上进行光路计算,或用像差自动校正程序进行自动校正,然后根据计算结果画出像差曲线,分析像差,找出原因,再反复进行相差计算和平衡,直到满足成像质量要求。 4、长光路的拼接与统算 以总体设计为依据,以像差评价为准绳,来进行长光路的拼接与统算。若结果不合理,则反复试算并调整各光组的位置与结构,直到达到预期的目的为止。,5、绘制光学系统图、部件图和零件图 绘制各种图纸,包括确定各光学零件的相对位置,光学零件的实际大小和技术条件。这些图纸为光学零件的加工、校验,零部件的胶合、装配、校正,乃至整机的装调、测试提供依据。 6、编写设计说明书 设计说明书是进行光学设计整个过程的技术总结,
8、是进行技术方案评审的主要依据。 7、进行技术答辩 必要时可以进行技术答辩,光学设计就是选择和安排光学系统中各光学零件的材料、曲率和间隔,使得系统的成像符合应用要求。一般设计过程基本是减小像差到可以忽略不急的程度。光学设计可以概括为一下几个步骤: (1)选择系统的类型 (2)分配元件的光焦度和间隔 (3)校正初级像差 (4)减小残余像差(高级像差) 以上每个步骤可以包括几个环节,重复地循环这几个步骤,最终会找到一个满意的结果。,2.2.2 光学设计的设计步骤,2.3 仪器对光学系统性能与质量要求 任何一种光学仪器的用途和使用条件必然会对它的光学系统提出一定的要求。因此,在进行光学设计之前一定要了
9、解对光学系统的要求。这些要求概括起来有以下几个方面。 2.3.1 光学系统的基本特性 数值孔径或相对孔径,线视场或角视场,系统的放大率或焦距。此外还有与这些基本特性有关的一些参数,如光瞳的大小和位置、共轭距等等。,2.3.2 系统的外形尺寸 系统的外形尺寸,即系统的轴向尺寸和径向尺寸。 2.3.3 成像质量 成像质量的要求和光学系统的用途有关。不同的光学系统按其用途可提出不同的成像质量要求。对于望远系统和一般的显微镜只要求中心视场有较好的成像质量;对于照相物镜则要求整个视场都要有较好的成像质量。,2.3.4 仪器的使用要求 根据仪器的使用条件,要求光学系统具有一定的稳定性、抗振性、耐热性和耐寒
10、性,以保证仪器在特定的环境下能正常工作。 在对光学系统提出使用要求时,一定要考虑在技术上和物理上实现的可能性。例如:生物显微镜500NA1000NA,望远镜0.2D0.75D,像质评价方法,实际成像的现实是:在光学系统中,点成像的弥散斑尺寸多大,由衍射效应还是几何像差占主导,多大尺寸的弥散斑是可以接受的,弥散斑内的能量如何分布,图像的对比度降低多少,系统的整体质量如何。 像质评价方法: 瑞利判断:实际波面与理想波面之间的最大波像差超过1/4波长,此波面可看作是无缺陷的。 分辨率:当一个点的衍射图中心与另一个点衍射图的第一暗环重合时,恰好能分辨。衍射理论的最小分辨角 =1.22/D,点列图:点对
11、应于弥散斑,用集中30%以上的点或光线的圆形区域为实际有效的弥散斑。 光学传递函数:傅里叶光学认为光学系统是线性不变系统,传递的频率不变。但受限光学仪器,并非所有的频谱都能传递。用光学传递函数表示光学系统在成像中的传递能力。,2.2.2 光学设计的基础,光学设计中的一些重要概念,焦距与视角的关系,焦距与视角的关系,2.2.3 像差设计过程,光学设计在很大程度上讲就是像差设计。 像差校正与平衡,是一项反复修改结构参数逐步逼近最佳结果的工作。在计算机辅助光学设计中,采用像差自动平衡的方法,极大地加快了设计进程,且显著地提高设计质量。 当像差已校正与平衡到良好状态后,需要借助适当的方法对像质做全面的
12、评价,以决定设计结果是否符合要求。如尚未达到要求,仍需继续做像差平衡工作;如发现无论怎样做像质还是达不到要求,应另选结构形式或另定初始参数。重复上述步骤继续设计,直到像质达到要求。,2.2.4 光学系统设计要求,进行光学设计前一定要了解设计要求,这些要求概括起来有以下几个方面: 基本特性:数值孔径或相对孔径、线视场或视场角、系统放大率或焦距。此外还有:光瞳大小和位置、后工作距离、共轭距等。 外形尺寸:即系统的横向尺寸与纵向尺寸。 成像质量:成像质量的要求和光学系统的用途有关。 仪器的使用条件,具体来说,光学系统设计要求还可分为光学系统基本要求和技术要求,基本要求包括:性能、构型选择和可制造性三
13、个方面。 技术要求包括:基本结构参数(物距、成像形式、像距、F数或数值孔径、放大率、全视场、透过率、焦距、渐晕);成像质量要求(探测器类型、主波长、光谱范围、光谱权重、调制传递函数、RMS波前衰减、能量中心度、畸变);机械和包装要求;其它具体要求。,2.2.5 光学设计的发展概况,20世纪之前的光学仪器,是利用人们直接磨制的各种透镜按不同情况进行组合,找出符合成像质量要求的结构。 为节省人力、物力,人们逐渐用计算方法来替代老办法。这种方法就称为像差计算。 对于某结构参数的光学系统,光线由同一物点开始,按折射、反射定律,算出若干条光线;根据这些光线通过系统以后的聚焦情况,可以大体知道成像质量;然
14、后修改结构参数,再重复上述计算,直到成像质量满意为止。 为加快设计进程,促使人们进行“像差理论”研究,但进展并不令人满意。 计算机的出现,使光学设计从人工计算的繁重劳动中解放出来,实现了“自动设计”或“像差自动校正”。,2.3 应掌握的光学设计基础,(1)了解光学系统对成像特性的影响 高斯光学性质;光度性质;衍射;像差校正状况 主要矛盾:仪器尺寸与高斯光学的矛盾;孔径、视场与像差校正的矛盾。 (2)几何光学基础 (3)像差理论:球差、慧差、像散、场曲、畸变、位置色差、垂轴色差。 (4)光学材料的选择和光学系统的公差分配。 (5)光机结构和光学工艺。,2.4 光线追迹及像差校正常用方法,2.4.
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