半导体工艺的良品率测量点.doc
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1、半导体工艺的良品率测量点本节我们将结合影响良品率的主要工艺及材料要素对主要的良品率测量点做一些介绍。良品率测量点维持及提高工艺和产品的良品率对半导体工艺至关重要。任何对半导体工业做过些许了解的人都会发现,整个工艺对其生产良品率极其关注。的确如此,半导体制造工艺的复杂性,以及生产一个完整封装器件所需要经历的庞大工艺制程数量,是导致这种对良品率的关注超乎寻常的基本原因。这两方面的原因使得通常只有20%80%的芯片能够完成晶圆生产线全过程,成为成品出货。 对于大部分制造工程师来说,这样的成品率看上去真是太低了。刻蚀当我们考虑一下所面临的挑战,是要在极其苛刻的洁净空间中,通过约39块不同的掩膜版,在1
2、40平方毫米的芯片范围内,制作出数百万个微米量级的元器件平面构造和立体层次,就会觉得能够生产出任何这样的芯片已经是半导体工业了不起的成就了。另外一个抑制良品率的重要方面是大多数生产缺陷的不可修复性。不像有缺陷的汽车零件可以更换,这样的机会对半导体制造来说通常是不存在的。缺陷芯片或晶圆一般是无法修复的。在某些情况下没有满足性能要求的芯片可以被降级处理做低端应用。废弃的晶圆或许可以发挥余热,作为某些制程工艺的控制晶圆或假片使用。 除了以上这些工艺方面的因素外,规模化的量产也使得良品率越发重要。巨额的资金投入,高于工业界平均比例的工程技术人员使用,这些导致了半导体生产高昂的分摊成本。居高不下的分摊成
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- 半导体 工艺 良品率 测量
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