基于LabVIEW和CompactRIO开发的EDM过程控制器.doc
《基于LabVIEW和CompactRIO开发的EDM过程控制器.doc》由会员分享,可在线阅读,更多相关《基于LabVIEW和CompactRIO开发的EDM过程控制器.doc(3页珍藏版)》请在三一文库上搜索。
1、基于LabVIEW和CompactRIO开发的EDM过程控制器FPGA硬件平台均采用统一图形语言LabVIEW编程,仅用两个多月的时间就完成了整个系统的开发,功能强大。挑战:快速开发一种分布式的电火花放电加工EDM(Electrical Discharge Machining)过程控制器, 它将快速采样(100KHz速率)和复杂EDM 伺服控制,实时放电过程监控和高度稳定可靠性等特点集成于一体。解决方案:应用NI 的CompactRIO,以LabVIEW 为软件开发平台,开发一套EMD过程控制器。它采用cRIO 模块和FPGA 进行放电电压/ 电流采集和EDM 伺服控制, 由cRIO 实时控制
2、器负责与被控外设间的数据通讯以及FPGA 和WINDOWS 主机间的联系纽带,工控机作为HMI 和实时放电波形显示。传统的电火花放电加工过程控制器是基于PC 机或者微控制器C。基于PC 机的方案(国内绝大部分EDM 厂家采用),存在实时性能较弱, 功能不强,稳定性差等致命弱点;基于C 的方案(Agie-Charmilles, Sodick等主流EDM系统及机床供应商采用),将EDM过程控制和机床运动控制集于一体的专用系统,存在开放性差、最终用户没法修改工艺、维护困难等缺点。GE公司采用NIcRIO 开发的EDM独立过程控制器克服了上述传统控制器的不足之处,吸收了前述两者EDM 的控制器优点。E
3、DM 过程控制器见图2。它是由NICompactRIO和研华工控机通过TCP/IP连接而成的集控制管理一体化分布式系统,由三层组成:FPGA和各种NI cRIO-I/O 模块组成的硬件层、PenTIum200MHz CPU 和P h a r L a p E T S(Embedded ToolSuite) 实时操作系统组成的实时控制层、由Windows操作系统组成的监控管理层。系统由高可靠性、强实时性的硬件层组成:cRIO-9103 , 后背板带3M FPGA(现场可编程门阵列)、时钟40MHZ的四槽I/O框架;cRIO-9221,输入电压+/-60V, 采样速率800KS/s 的12 位模拟输
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 基于 LabVIEW CompactRIO 开发 EDM 过程 控制器
链接地址:https://www.31doc.com/p-3410884.html