GBT 11164-1999.pdf
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1、i cs 2 3 . 1 6 0 J 7 8 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 c s / T 1 1 1 6 4 一 1 9 9 9 真空镀膜设备通 用技术条件 V a c u u m c o a t i n g p l a n t g e n e r i c s p e c i f i c a t i o n 1 9 9 9 一 0 4 一 0 8 发布1 9 9 9 一 0 9 一 0 1 实施 国 家 质靛技 术 监 督 局发布 G B / T 1 1 1 6 4 一 1 9 9 9 前言 本标准是对G B / T 1 1 1 6 4 -1 9 8 9 真空 镀膜设备通用技术
2、条件 进行修订而编制的。 在内容上, 对某些技术指标进行了修改. 如: B类镀膜设备抽气时间从原来的 1 5 , 2 0 mi n改为 l o m i n ; 增加了升压率指标; 并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产. 在本次标准修订中 将C类产品取消。 本标准自 实施之日 起代替G B / T 1 1 1 6 4 -1 9 8 9 , 本标准由国家机械工业局提出。 本标准由 全国 真空技术标准化技术委员会归口。 本标准起草单位: 上海曙光机械制造厂、 沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人: 张树中、 李春影、 李玉英。 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 G B / T
3、1 1 1 6 4 一1 9 9 9 真空镀膜设备通用技术条件 代替 GB / T 1 1 1 6 4 -1 9 8 9 Va c u u m c o a t i n g p l a n t g e n e r ic s p e c i f i c a t io n 范围 本标准规定了真空镀膜设备技术要求、 试验方法、 检验规则、 标志、 包装、 运输和贮存等。 本标准适用于压力在 1 0 - - 1 0 - P a 范围的蒸发类、 溅射类、 离子镀类真空镀膜设备( 以下简称设 备) 弓 用标 准 下列标准所包含的条文, 通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时, 所示版本均 为有
4、效,所有标准都会被修订, 使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 G B 1 9 1 -1 9 9 。 包装储运图示标志 GB / T 6 0 7 0 -1 9 9 5 真空法兰 G B / T 1 3 3 8 4 -1 9 9 2 机电 产品包装通用技术条件 J B / T 7 6 7 3 -1 9 9 5 真空设备型号编制方法 定义 本标准采用下列定义。 3 . 1 极限压力 真空系统正常工作时, 空载千燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位: P a , 3 . 2 抽气时间 真空系统正常工作时, 将空载干燥的镀膜室从大气压( 1 0 5 P a ) 抽到规定的压力所需要的时间
5、。 单位: M I no 3 . 3 升压率 将空 载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后, 截止抽气, 在镀膜室内由于 漏气 或内 部放气所 造成的单位时间的升压。单位: P a / h , 技术要求 1 设备正常工作条件 1 . 1 环境温度: 1 0 -3 0 C . 1 . 2 相对湿度: 不大于7 5 0 0 0 1 . 3 冷却水进水温度 : 不高于 2 5 C。 1 . 4 冷却水质: 城市自来水或质量相当的水。 1 . 5 供电电源: 3 8 0 V、 三相、 5 0 Hz 或 2 2 0 V、 单相、 5 0 Hz ( 由所用电器需要而定) ; 电压波动范围 月月月q 月月
6、月 3 4 2 3 9 9 V或 1 9 8 - 2 3 1 V; 频率波动范围4 9 5 1 Hz , 国家质f技术监督局1 9 9 9 一 0 4 一 0 8 批准1 9 9 9 一 0 9 一 0 1 实施 1 GB / T 1 1 1 6 4 一1 9 9 9 4 . 1 . 6 设备所需的压缩空气、 液氮、 冷热水等压力、 温度、 消 耗量均应在产品使用说明书中 写明。 4 . 1 . 7 设备周围环境整洁, 空气清洁, 不应有可引起电器及其他金 属件表面腐蚀或引起金属间 导电的 尘埃或气体存在。 4 - 2 设备技术参数 4 . 2 . 1 设备的主要技术参数应符合表 1 的规定.
7、 4 . 2 . 2 设备的型号应符合J B / T 7 6 7 3 的 规定。 表 1 项次参 数 名 称参数数值 1 镀膜室尺寸分档, mm 3 2 0 , 5 0 0 , 6 0 0 , 6 3 0 , 7 0 0 , 8 0 0 , 9 0 0 , 1 0 0 0 , 1 2 0 0 , 1 2 5 0 、 1 4 0 0 , 1 6 0 0 , 1 8 0 0 , 2 0 0 0 2 真空 指标 分档 AB 极限压力, P a5 X 1 0 - 4蕊 5 X1 0 - 抽气时间, min ( 1 0 + 5 - 7 X 1 0 - P a ) G 2 0( 1 0 * - 7 X 1
8、 0 - P a ) , 1 0 升压率, P a / h 毛8 X1 0 - ( 2 . 5 3 沉积源 指 标 沉积源型式、 尺寸、 数t及最大耗 电功率 根据设计要求 4工 件 架 指 标 工件架尺寸及转动方式 工件烘烤方式及烘烤温度 5 离子轰击, 工件偏压功率 6 腆厚监控方式及控制精度 7 设备控制方式 8 设备最大耗电t 注 1所列镇膜室的几何尺寸。 对圆往式室体为圆柱内径, 对箱式室体为箱体内宽度。 带 份 号尺寸优先选用, 其他尺 寸和其他结构形式的设备可由制造厂参照上述尺寸决定。专用设备由用户与制遣厂另订协议。 2本尺寸分档作为推荐值, 不作考核. 4 . 3 结构要求 4
9、 . 3 . 1 设 备中的真空管道、 静动密封零部件的 结构型 式和尺寸应符合G B / T 6 0 7 0 的 规定。 4 . 3 . 2 在真空管道及镀膜室上应安装真空测试规管, 分别测量各部位的压力。 4 . 3 . 3 如果设备的主泵为扩散泵时, 应在泵的进气口一侧安装油蒸气捕集阱。 4 . 3 . 4 设备的镀膜室应有观察窗, 对在镀膜过程中发生射线的设备, 观察窗上应加装防射线镜片。 4 . 4 制造质量 4 . 4 . 1 设备主要零部件制造所用的原材料应符合相应的材料标准的规定, 且应具有质量合格证书。如 证书不全或产生疑问时应由制造厂检验部门负责复验。 Gs / T 1 1
10、 1 6 4 一1 9 9 9 4 . 4 . 2 设备的零部件的机械加工质量及设备的焊接质量均应符合制造厂技术文件的规定。 4 . 4 . 3 设备的 装配质量应符合制造厂技术文件的 规定, 装配时对工作中 处于真空的 各零部件表面应 进 行有效的真空清洗处理并予以干燥, 各运动件装配后应运动灵活平稳。 4 . 4 . 4 设备中 被膜沉积源、 离子轰击、 工件偏压、 工件加热、 膜厚监控等 装置均应 逐项 调试和联合调试, 性能均应达到设计要求、 运行可靠。工件加热过程中 设备应能正常 运转。 4 . 4 . 5 设备所配用的自 制或外购的泵、 阀、 表、 计等各类机械、 电 器元器件都应
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