PCB化金流程介绍.ppt
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1、SMT-88 SMT-88 化学镍金制程介绍化学镍金制程介绍化学镍金制程介绍化学镍金制程介绍&管理管理管理管理1目录目录:1.化学镍金工艺特征2.化学镍金板的主要应用3.化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程4.化学镍金SMT88产品介绍及典型工艺流程5.化学镍金简易沉积机理及各层功能介绍6.化学镍金SMT88产品设备要求7.化学镍金SMT88产品工艺控制参数及溶液更换基准及管理 2CONFIDENTIAL化学镍金工艺特征化学镍金工艺特征化学镍金工艺特征化学镍金工艺特征1.无须通电,通过化学反应在线路板上选择性沉积一层平坦的镍金,焊盘表 面平整,增加SMD元件组装和贴装的可靠性和安全
2、性。2.单一表面处理即可满足插装、表面安装、芯片直接安装等多种组装要求,具有可焊接、可接触导通。3.在沉积镍金的焊盘和线路位置,其侧面也同样被镍金所覆盖,可满足恶劣 环境下对线路板之苛刻要求。4.加工过程不使用助焊剂,因而化学镍金板表面污染度相当低。根据研究报 告,喷锡板的污染度为4.5g NaCl/cm2(29g NaCl/in2),而化学镍金板仅 仅为1.5g NaCl/cm2(9.6g NaCl/in2)。一般化金板在成型清洗后都不会 超过4.5gNaCl/in25.与喷锡比较相对低的加工温度减少了对板材及金属化孔的热冲击,板材不易出现纤维分层,板的尺寸稳定性高,金属化孔不易出现内层断裂
3、等缺陷。3CONFIDENTIAL化学镍金板的主要应用化学镍金板的主要应用化学镍金板的主要应用化学镍金板的主要应用1.移动电话机2.传呼机3.计算器4.电子词典5.电子记事本6.记忆卡7.笔记型电脑8.掌上型电脑9.掌上型游戏机10.IC卡11.汽车用板12.其它在苛刻环境下使用之线路板4CONFIDENTIAL化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程选择性化金板 流程:前处理 涂膜 曝光 显影 化金 剥膜物理处理物理处理(pumice)化学处理化学处理(SPS)干膜干膜湿膜湿膜(防焊文字印刷有要求防焊文字印刷有要求)全面化金板流程:前处
4、理化金清洗5CONFIDENTIAL化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程化学镍金板分类及相关流程选择性化金板对OSP的微蚀参数要求参数选择性化金板全铜板咬蚀量13-21U20-40U铜离子2g/L2g/l13CONFIDENTIAL清潔作用機構清潔作用機構1.1.受污物污染的物質表面受污物污染的物質表面 2.2.水的表面張力大水的表面張力大,濕潤性小濕潤性小,沒有去污作用沒有去污作用.3.3.清潔劑對污物及物質之濕潤性及吸附性大清潔劑對污物及物質之濕潤性及吸附性大,結果減少了污物對物質表面之附著力結果減少了污物對物質表面之附著力.4.4.清潔劑再進一步溶化污
5、物清潔劑再進一步溶化污物,將污物去除將污物去除 固體表面的原子或分子因為其原子價力或分子間力沒有飽合,故比內部的原子或分子具有更大的能.所以固體表面有吸附氣體或液體的能力.液體與表面接觸時先將其所吸附的氣體趕走後始能吸附液體.此現象稱為濕潤(wetting).14CONFIDENTIAL改变清洁槽各参数对制程的影响:改变清洁槽各参数对制程的影响:药水调整:LP-200补充量(L)=(50-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(98%)补充量(L)=LP-200补充量(L)1L原液LP-200可生产1000SF备注:若药水补充量配槽量的1/3,请理化室重新取样确认分析15CONFIDENT
6、IAL微蚀槽反应机理及主要控制参数微蚀槽反应机理及主要控制参数:作用:1.去除氧化2.提供足够的微粗糙度,以增加镍层与铜层的结合力基本反应机理:Cu+S2O82-Cu2+2SO42-主要成份:SPS,硫酸主要控制点:1.浓度:硫酸:20-30-40ml/l,SPS:80-100-120g/l2.温度:25-30-35C 3.咬蚀率:60-100u”/cycle 4.寿命:Cu2+15g/l16CONFIDENTIAL改变微蚀槽各参数对制程的影响:改变微蚀槽各参数对制程的影响:药水调整:SPS补充量(Kg)=(100-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(98%)补充量(L)=(30-分析
7、值)X槽体积(L)/1000H2SO4(50%)补充量(L)=H2SO4(98%)补充量(L)X2.6备注:若药水补充量配槽量的1/3,请理化室重新取样确认分析17CONFIDENTIAL预浸槽反应机理及主要控制参数预浸槽反应机理及主要控制参数:作用:1.去除氧化,调整铜面2.保护钯槽&维持钯槽酸度基本反应机理:CuO+2H+Cu2+H2O主要成份:硫酸主要控制点:1.浓度:硫酸:40-50-60ml/l2.温度:25-30-35C 3.寿命:同钯槽药水调整:H2SO4(98%)补充量(L)=(50-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(50%)补充量(L)=H2SO4(98%)补充量(
8、L)X2.6备注:若药水补充量配槽量的1/3,请理化室重新取样确认分析18CONFIDENTIAL改变预浸槽各参数对制程的影响:改变预浸槽各参数对制程的影响:药水调整:H2SO4(98%)补充量(L)=(50-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(50%)补充量(L)=H2SO4(98%)补充量(L)X2.6备注:若药水补充量配槽量的1/3,请理化室重新取样确认分析19CONFIDENTIAL钯槽反应机理及主要控制参数钯槽反应机理及主要控制参数:作用:置换生成单一薄钯层,以启发随后之沉镍反应成份:硫酸,硫酸钯基本反应机理:Cu+Pd2+Cu2+Pd主要控制参数:1.浓度:硫酸40-50-
9、60ml/l,钯浓度:40-50-60PPM2.温度:22-25-28C3.寿命:每升原液可处理1000ft2生产板&Cu2+300PPM20CONFIDENTIAL改变钯槽各参数对制程的影响:改变钯槽各参数对制程的影响:药水调整:药水调整:CatalystCF补充量(L)=(50-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(98%)补充量(L)=(50-分析值)X槽体积(L)/10001LCatalystCF原液含有钯1000PPM1L原液CatalystCF可生产1000SF21CONFIDENTIAL后浸槽反应机理及主要控制参数后浸槽反应机理及主要控制参数:作用:去除阻焊膜及基板上多余之
10、钯离子离子主要控制参数:1.浓度:硫酸10-20-30ml/l,2.温度:20-25-30C3.寿命:生产面积达10KSF药水调整:H2SO4(98%)补充量(L)=(20-分析值)X槽体积(L)/1000H2SO4(50%)补充量(L)=H2SO4(98%)补充量(L)X2.6参数低于标准下限高出标准上限浸缸时间无法去除基材及S/M上多余的钯离子,导致渗镀或S/M上金露铜或漏镀浓度同上同上22CONFIDENTIAL镍槽反应机理及主要控制参数镍槽反应机理及主要控制参数:作用:自催化反应生成抗蚀,可焊接的镍磷合金层成份:1.硫酸镍:提供镍离子(1LR含有Ni2+120g/l)2.次亚磷酸盐:提
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